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型號(hào):

XAU系列國(guó)產(chǎn)X熒光測(cè)厚儀

描述:XAU系列國(guó)產(chǎn)X熒光測(cè)厚儀是一款設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊,模塊精密化程度*的光譜分析儀,采用了下照式C型腔體設(shè)計(jì),是一款一機(jī)多用型光譜儀。應(yīng)用核心EFP算法和微光聚集技術(shù),既保留了專用測(cè)厚儀檢測(cè)微小樣品和凹槽的性能,又可滿足微區(qū)RoHS檢測(cè)及成分分析。主要用于金屬鍍層厚度的檢測(cè),廣泛應(yīng)用于電子電器、五金工具、電鍍加工、隔離開(kāi)關(guān)、材料表面處理、電子連接器等企業(yè),多一次分析三層。

  • 廠商性質(zhì)

    經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間

    2025-05-19
  • 訪問(wèn)量

    2050
詳細(xì)介紹
品牌其他品牌行業(yè)專用類型通用
價(jià)格區(qū)間面議儀器種類臺(tái)式/落地式
應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子/電池,包裝/造紙/印刷

儀器簡(jiǎn)介:

XAU-4C(B)光譜分析儀是一款設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊,模塊精密化程度*的光譜分析儀,采用了下照式C型腔體設(shè)計(jì),是一款一機(jī)多用型光譜儀。

應(yīng)用核心EFP算法和微光聚集技術(shù),既保留了專用測(cè)厚儀檢測(cè)微小樣品和凹槽的性能,又可滿足微區(qū)RoHS檢測(cè)及成分分析。

被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來(lái)料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。


產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):

  • 微小樣品檢測(cè):最小測(cè)量面積0.03mm2(加長(zhǎng)測(cè)量時(shí)間可小至0.01mm2)

  • 變焦裝置算法:可改變測(cè)量距離凹凸異形樣品,變焦距離可達(dá)0-30mm

  • 自主研發(fā)的EFP算法:Li(3)-U(92)元素的涂鍍層,多層多元素,甚至有同種元素在不同層也可精確測(cè)量

  • *解譜技術(shù):減少能量相近元素的干擾,降低檢出限

  • 高性能探測(cè)器:SDD硅漂移窗口面積25/50mm2探測(cè)器

  • 光路系統(tǒng):微焦加強(qiáng)型射線管搭配聚焦、光路交換裝置

  • 多準(zhǔn)直器自動(dòng)切換


XAU-4C光譜分析儀x射線測(cè)厚儀應(yīng)用領(lǐng)域:

廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)、新能源行業(yè)、5G通訊、五金建材、航空航天、環(huán)保行業(yè)、汽車行業(yè)、貴金屬檢測(cè)、精密電子、電鍍行業(yè)等多種領(lǐng)域。

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多元迭代EFP核心算法(ZL號(hào):2017SR567637)

專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上,計(jì)算樣品中每個(gè)元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強(qiáng)效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開(kāi)發(fā)出EFP核心算法,結(jié)合*光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng),只需要少量的標(biāo)樣來(lái)校正儀器因子,可測(cè)試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機(jī)物層的厚度及成分含量。

單涂鍍層應(yīng)用:如Ni/Fe、Ag/Cu等

多涂鍍層應(yīng)用:如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

合金鍍層應(yīng)用:如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

合金成分應(yīng)用:如NiP/Fe,通過(guò)EFP算法,在計(jì)算鎳磷鍍層厚度的同時(shí),還可精準(zhǔn)分析出鎳磷含量比例。

重復(fù)鍍層應(yīng)用:不同層有相同元素,也可精準(zhǔn)測(cè)量和分析。

如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB,第一層Ni和第三層Ni的厚度均可測(cè)量。

有害元素檢測(cè):RoHS檢測(cè),可滿足鉛(Pb)、汞(Hg)、鎘(Cd)、六價(jià)鉻(Cr VI)等有害元素的成分檢測(cè)及含量分析


XAU-4C光譜分析儀x射線測(cè)厚儀技術(shù)參數(shù):

1. 成分分析范圍:鋁(Al)- 鈾(U)

2. 成分檢出限:1ppm

3. 涂鍍層分析范圍:鋰(Li)- 鈾(U)

4. 涂鍍層檢出限:0.005μm

5. 最小測(cè)量直徑□0.1*0.3mm(最小測(cè)量面積0.03mm2)

   標(biāo)配:最小測(cè)量直徑0.3mm(最小測(cè)量面積0.07mm2)

6. 對(duì)焦距離:0-30mm

7. 樣品腔尺寸:500mm*360mm*215mm

8. 儀器尺寸:550mm*480mm*470mm

9. 儀器重量:45KG

10. XY軸工作臺(tái)移動(dòng)范圍:50mm*50mm

11. XY軸工作臺(tái)最大承重:5KG



選擇一六儀器的四大理由:

1.一機(jī)多用,無(wú)損檢測(cè)(涂鍍層檢測(cè)-環(huán)保RoHS-成分分析)

2.最小測(cè)量面積0.002mm2

3.可檢測(cè)凹槽0-30mm的異形件

4.輕元素,重復(fù)鍍層,同種元素不同層亦可檢測(cè)

分析元素范圍:Al-U

計(jì)數(shù)率:0-10000cps

高壓:5kV-50kV

管流:50μA-1000μA

測(cè)量時(shí)間:5s-300s

分析厚度檢出限達(dá)0.01μm

樣品腔尺寸:306×260×78mm


硬件:

主機(jī)壹臺(tái):

含下列主要部件

(1)  X光管                    (2)正比計(jì)數(shù)器

(3)放大電路                   (4)高清晰攝像頭

(5)高壓系統(tǒng)                   (6)單樣品腔

軟件:X熒光光譜儀厚度分析軟件



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